[誘電体多層膜]

金属酸化物等の誘電体の中で透明性の高い物質は、光学薄膜の材料として広く用いられています。誘電体多層膜とは、屈折率の異なる２つ以上の薄膜を積層したものであり、様々な光学性能を得ることができる当社のコア技術です。

製膜法

当社は薄膜を全て「真空蒸着法」により成膜します。真空蒸着法とは、非常に高真空に保たれたチャンバー（釜）の中で膜材料を加熱して蒸発させ、その蒸気を上方に配置された基板（ガラス等）に堆積させる成膜方法の一つです。一般的には、基板上の成膜の高硬度・高密着性を得るために、成膜基板を200~300℃に加熱する必要があります。しかし基板の耐熱温度が低い場合には、当社の「真空蒸着法」により無加熱で成膜することも可能です。また、特殊環境にて特性の微小変化が問題となる用途については、当社はイオンアシスト蒸着（製膜中にイオンを注入することにより膜の密度を向上させる蒸着法）によるノンシフトコーティングをお奨めしております。